中科院物理所王建濤、王恩哥、王鼎盛與美國內(nèi)華達大學(xué)物理系、日本東北大學(xué)金屬材料研究所等合作，系統(tǒng)地研究了Si(001)表面Bi、Sb納米線的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性以及形成“5-7-5 double-core odd-membered ring”結(jié)構(gòu)的動力學(xué)過程。
另外，作為形成Bi或Sb納米線的基本元素，Bi和Sb的初始狀態(tài)通常以四聚物納米團簇(Tetramer)的形式出現(xiàn)并在一定的溫度下分解為二聚物(Dimer)。盡管Bi、Sb、As作為表面活性劑在半導(dǎo)體表面工藝中被廣泛使用，但是長期以來有關(guān)其初始狀態(tài)的結(jié)構(gòu)以及分解擴散機理的研究卻甚少。
最近，他們又詳細地研究了Bi4和Sb4納米團簇在Si(001)表面上的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、分解擴散路徑，提出了“Two-stage double piecewise rotation” 分解新機制，揭示了表面吸附原子(活性劑)和襯底之間的反應(yīng)機理。這些結(jié)果為在半導(dǎo)體硅表面上制備量子點或量子線提供了重要理論支撐,對理解硅表面重構(gòu)及有關(guān)物性具有廣泛的科學(xué)意義。部分研究結(jié)果發(fā)表在2006年7月28日出版的 Phys Rev Lett 上。
