用于將光致抗蝕劑和/或犧牲性抗反射涂層(SARC)材料從其上具有這些物質(zhì)的基片去除的組合物和方法。該組合物包括堿組分，例如與堿金屬堿或堿土金屬堿組合的季銨堿，或與氧化劑組合的強(qiáng)堿。該組合物可用于水性介質(zhì)中，例如與螯合劑、表面活性劑和/或共溶劑類物質(zhì)一道使用，從而在集成電路制造中實(shí)現(xiàn)光致抗蝕劑和/或SARC材料的高效去除，而對(duì)基片上的金屬類物質(zhì)例如銅、鋁和/或鈷合金沒(méi)有不良影響，對(duì)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中使用的SiOC基介電材料也沒(méi)有損害。
