該發(fā)明屬于高純度、亞納米級(jí)氧化鈷的生產(chǎn)方法。包括配制鈷鹽溶液、碳酸氫銨溶液及草酸銨溶液，制備碳酸鈷與草酸鈷混合漿料，過(guò)濾、洗滌，焙燒及分選。該發(fā)明在引入表面活性劑解決草酸鈷顆粒大的基礎(chǔ)上采用碳酸鈷和草酸鈷的混合漿料作基料，利用草酸鈷的“橋架”及促濾作用解決了單純碳酸鈷料漿難以通過(guò)洗滌除雜，并采用去離子水洗滌除去堿金屬及堿土金屬離子，同時(shí)提高了焙燒時(shí)物料的通透性。因而具有所生產(chǎn)產(chǎn)品純度高、粒度細(xì)，粒度的均勻性及純度與粒度的一致性好，生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)體系內(nèi)、外進(jìn)入的雜質(zhì)的清除能力強(qiáng)、成品率及生產(chǎn)效率高，經(jīng)濟(jì)效益顯著，可充分滿足各類電子元件的生產(chǎn)要求等特點(diǎn)。
