【摘要】本發(fā)明提供了改進的二氧化硅蝕刻劑,由把作為表面活性劑的可溶性環(huán)狀氟化磺酸鹽添加到集成電路制作中所用的標準的氧化物蝕刻劑溶液中而獲得的.
含有環(huán)狀氟化磺酸鹽表面活性劑蝕刻溶液.pdf