超聲一電沉積納米Ni—TiN復(fù)合鍍層

工藝條件：pH值4—5，溫度30℃，電流密度2—6A／dm²，電沉積條件為直流／脈沖，超聲功率200W，時(shí)間30～45min。

復(fù)合電沉積是使固體顆粒與基質(zhì)金屬共同沉積來(lái)獲得復(fù)合鍍層的一種方法。其鍍層具有較高的硬度、耐磨性、耐腐蝕性等特點(diǎn)。在電沉積的基礎(chǔ)上引入超聲波的目的是抑制納米粉體團(tuán)聚，加快晶體的生長(zhǎng)速率。

脈沖電沉積制備的納米Ni—TiN復(fù)合鍍層表面致密，晶粒尺寸小，明顯優(yōu)于直流電沉積制備的復(fù)合鍍層。由大慶石油學(xué)院研究開(kāi)發(fā)。