【發(fā) 明 者】Fahl Madlen;Hentrich Dirk;Schroeder Thomas;Meyer Jens
【申 請(qǐng) 人】漢高(Henkel AG & Co. KGaA)
【申 請(qǐng) 號(hào)】14256499
【申 請(qǐng) 日】2014-04-18
【公 開(kāi) 號(hào)】20140228268
【公 開(kāi) 日】2014-08-14
【摘 要】一種溫和的化妝清潔劑在合適的載體中包括a）1～6wt%的至少一種如式（1）所示的的陰離子表面活性劑，其中R1為直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的具有6～30個(gè)碳原子的烷基，R2～R5中至少有一個(gè)基團(tuán)為C1-C4烷基，其余基團(tuán)彼此獨(dú)立地為氫原子或C1-C4烷基，M+為銨、烷醇銨或金屬陽(yáng)離子；b）2～10wt%的至少一種兩性和/或兩性離子表面活性劑；c）5～10wt%的至少一種非離子表面活性劑和/或至少一種非離子乳化劑，選自以下基團(tuán)中的至少一種：烷基（低聚）苷、氧化胺和/或甘油的單和/或雙（C6－C24）羧酸酯，其中所示含量相對(duì)于總重量計(jì)算。
