表面活性劑對(duì)NBD-Cl衍生氨基酸的熒光增敏和芯片電泳分離的影響.pdf

研究多種表面活性劑以及溶劑對(duì)4-氯-7-硝基苯-2-氧-1-3-二唑（NBD-Cl）衍生物氨基酸熒光性質(zhì)的影響。考察并優(yōu)化了NBD-Cl與氨基酸的衍生反應(yīng)條件以及芯片毛細(xì)管電泳-激光誘導(dǎo)熒光的分離分析條件。結(jié)果表明：在臨界膠束濃度以上，陽離子表面活性劑十六烷基三甲基溴化銨（CTMAB）對(duì)精氨酸、谷氨酸、天冬氨酸的NBD-Cl衍生物，非離子表面活性劑十二烷基聚氧乙烯醚（Brij-35）對(duì)苯丙氨酸、精氨酸的NBD-Cl衍生物有熒光增敏效果。在含有5mmol/L Brij-35和20%乙腈添加劑的15mmol/L硼砂緩沖液（PH9.2）中，精氨酸、苯丙氨酸、丙氨酸、甘氨酸、谷氨酸及天冬氨酸等6種氨基酸的NBD-cl衍生物可以在70s內(nèi)實(shí)現(xiàn)分離，其中較難分離的丙氨酸、甘氨酸的NBD-Cl衍生物分離度為0.91;6種氨基衍生物的檢出限為0.15~1.6μmol/L。

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