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可斷鍵芳磺酸鹽表面活性劑的合成與表面活性.pdf

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2009-06-10  瀏覽次數(shù):363
核心提示:可斷鍵芳磺酸鹽表面活性劑的合成與表面活性.pdf

以三聚氯氰、脂肪胺和H酸鈉鹽為原料,合成了一系列不同碳鏈長度的芳磺酸型陰離子表面活性劑,采用HNMRIR和元素分析測試技術(shù)對其結(jié)構(gòu)進行了表征。分別用穩(wěn)態(tài)熒光法和表面張力法測定了25℃時表面活性劑的臨界膠束濃度(CMC)。隨著碳鏈的增長,4種表面活性劑的CMCCMC下的表面張力(γcmc)呈先減小后增大的趨勢。當疏水碳鏈為C10烷基時,CMC和γcmc同時達到最低值,分別為1.5×10-5mol/L28.29mN/m。當疏水碳鏈為C12烷基時,CMC和γcmc同時增加。與十二烷基苯磺酸鈉(SDBS)相比,該類表面活性劑在氣液界面上的飽和吸附量均比較低,分子表面積均比較大。穩(wěn)定性測試實驗表明,該類表面活性劑符合可斷鍵條件。

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