1前言
電子部件上往往要鍍覆可焊性鍍層,以確保良好焊接。Sn和Sn-Pb合金鍍層具有優(yōu)良的可焊性,已經(jīng)廣泛地應(yīng)用于電子工業(yè)領(lǐng)域中。但是Sn-Pb合金鍍層中含有污染環(huán)境的鉛,錫鍍層容易產(chǎn)生導(dǎo)致電路短路的晶須。隨著環(huán)境管理的加強(qiáng)和焊接品質(zhì)的提高,人們希望使用無(wú)鉛焊料鍍層。現(xiàn)在已經(jīng)開(kāi)發(fā)了Sn-Ag合金、Sn-Bi合金、Sn-In合金和Sn-Zn合金等無(wú)鉛焊料鍍層,它們存在的問(wèn)題有:1)獲得Sn-Ag合金鍍層的鍍液中含有絡(luò)合能力很強(qiáng)的絡(luò)合劑,鍍液管理復(fù)雜而困難,而且使用價(jià)格較高的銀,使得鍍層成本較高。2)鉍的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%以上的Sn-Bi合金鍍層的熔點(diǎn)為130~
2工藝概述
研究發(fā)現(xiàn),Sn-Cu合金鍍層中的雜質(zhì)碳含量對(duì)鍍層可焊性有著重要的影響。電鍍以后的Sn-Cu合金鍍層中的雜質(zhì)碳幾乎不會(huì)存在于鍍層表面上,因而不會(huì)影響鍍層的可焊性。但是如果在室溫下長(zhǎng)期保存或者加熱處理以后,由于室溫下的擴(kuò)散或者由于加熱引起的熱擴(kuò)散,碳就會(huì)浮出到鍍層表面上,顯著地影響鍍層的可焊性。研究結(jié)果表明,Sn-Cu合金鍍層中的雜質(zhì)碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.3%以下時(shí),可以顯著地提高鍍層的可焊性。研究結(jié)果還表明,如果以Sn-Cu合金鍍層取代Sn-Pb合金鍍層,考慮到電子部件之間的焊接強(qiáng)度或者250~300℃的焊接溫度,Sn-Cu合金鍍層中的銅質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%~2.5%,最好為0.5%~2.0%。如果銅質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于0.1%,就容易發(fā)生錫的晶須而可能導(dǎo)致短路;如果銅質(zhì)量分?jǐn)?shù)高于2.5%,鍍層熔點(diǎn)就會(huì)超過(guò)
Sn-Cu合金鍍液中含有可溶性錫鹽和銅鹽、有機(jī)酸、表面活性劑和防氧化劑等組成。
可溶性錫鹽有甲烷磺酸錫、乙烷磺酸錫、丙烷磺酸錫、2-丙烷磺酸錫等烷基磺酸錫鹽和羥基甲烷磺酸錫、2-羥基乙基-1-磺酸錫、2-羥基丁基-1-磺酸錫鹽等烷醇基磺酸錫鹽。它們可以單獨(dú)或者混合使用。以錫計(jì)的質(zhì)量濃度為5~
可溶性銅鹽有甲烷磺酸銅、乙烷磺酸銅、丙烷磺酸銅、2-丙烷磺酸銅等烷基磺酸銅鹽和羥基甲烷磺酸銅、2-羥基乙基-1-磺酸銅、2-羥基丁基-1-磺酸銅等烷醇基磺酸銅鹽。它們可以單獨(dú)或混合使用。以銅計(jì)的質(zhì)量濃度為0.01~30g/L,最好為0.1~10g/L,在這一濃度范圍內(nèi)可以獲得銅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%~2.5%且最好為0.5%~1.0%的Sn-Cu合金鍍層。
鍍液中加入有機(jī)酸旨在絡(luò)合鍍液中的錫鹽和銅鹽,并用作鍍液的導(dǎo)電性成分,提高鍍液的穩(wěn)定性和導(dǎo)電性。適宜的有機(jī)酸有甲烷磺酸、乙烷磺酸、丙烷磺酸、2-丙烷磺酸等烷基磺酸和羥基甲烷磺酸、2-羥基乙基-1-磺酸、2-羥基丁基-1-磺酸等烷醇基磺酸。它們可以單獨(dú)或者混合使用。有機(jī)酸質(zhì)量濃度為30~
鍍液中加入非離子表面活性劑旨在改善鍍液性能,有利于獲得平滑的Sn-Cu合金鍍層。適宜的非離子表面活性劑有聚氧乙烯烷基芳基醚、聚氧乙烯壬酚醚、聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯山梨糖醇酯、聚乙烯亞胺等。它們可以單獨(dú)或者混合使用。非離子表面活性劑質(zhì)量濃度為0.5~50g/L,最好為1~10g/L。
鍍液中加入防氧化劑旨在防止鍍液中的二價(jià)錫離子氧化成四價(jià)錫離子,保持鍍液和合金鍍層組成的穩(wěn)定性。適宜的防氧化劑有抗壞血酸及其Na+、K+等堿金屬鹽、鄰苯二酚、間苯二酚、對(duì)苯二酚、甲酚磺酸及其Na+、K+等堿金屬鹽,苯酚磺酸及其Na+、K+等堿金屬鹽,連苯三酚,均苯三酸等。它們可以單獨(dú)或者混合使用。防氧化劑質(zhì)量濃度為0.1~
鍍液中還加入了葡萄糖酸、酒石酸、富馬酸等有機(jī)羧酸作為鍍液穩(wěn)定劑;加入了苯甲酰丙酮、戊二醛、苯醛、鄰氯苯醛、1-萘醛、三聚乙醛、2-巰基苯并噻唑等作為光亮劑;或者加入進(jìn)一步改善鍍液和鍍層性能的陽(yáng)離子、陰離子,兩性等表面活性劑。
鍍液溫度為10~70℃,最好為20~50℃。陰極電流密度為0.1~100A/dm2,根據(jù)掛鍍、滾鍍和噴鍍等電鍍方式采用不同的陰極電流密度,例如掛鍍的陰極電流密度為0.2~1A/dm2,滾鍍時(shí)的陰極電流密度為0.5~4A/dm2,噴鍍時(shí)的陰極電流密度為30~
3 鍍液配方
Fe-Ni合金(58% Fe,42%Ni)制雙列直插式封裝(D IP, Dual Inline Package)24針(厚度
鍍層性能評(píng)估 為了評(píng)估從例1~9鍍液中獲得的Sn-Cu合金鍍層的可焊性,把鍍有Sn-Cu合金鍍層的引線(xiàn)架置于
◎—優(yōu)良,呈現(xiàn)焊料濕潤(rùn)面積為100%的鏡面外觀。
△—較差,焊料濕潤(rùn)面積低于95%,高于70%,有多數(shù)凹痕。
除可評(píng)估鍍層可焊性以外,還測(cè)定了鍍層厚度,鍍層中碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)和銅的質(zhì)量分?jǐn)?shù),結(jié)果如表2所示。
由表2可知,采用例1~6鍍液電鍍的引線(xiàn)架鍍層均勻致密,沒(méi)有模糊或者燒焦等異常現(xiàn)象。鍍層中的碳質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于0.3%,加熱處理以后的零交時(shí)間很短,焊料濕潤(rùn)外觀優(yōu)良,表明Sn-Cu合金鍍層的可焊性?xún)?yōu)良。與例1~6相比,從例7~9鍍液中電鍍的引線(xiàn)架鍍層中的碳質(zhì)量分?jǐn)?shù)高于0.3%,零交時(shí)間為例1~6平均值的4倍以上,焊料濕潤(rùn)外觀較差,表明Sn-Cu合金鍍層的可焊性較差。
4結(jié)論
含有可溶性錫鹽和銅鹽、有機(jī)酸、表面活性劑等組成的Sn-Cu合金鍍液的特性如下:
從鍍液中可以獲得均勻致密的Sn-Cu合金鍍層,鍍層沒(méi)有霧狀或者燒焦等不良現(xiàn)象。
Sn-Cu合金鍍層的碳質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于0.3%,長(zhǎng)時(shí)間保存或者加熱處理以后尤其是蒸汽老化以后仍然具有優(yōu)良的可焊性。
Sn-Cu合金鍍層可以取代含鉛的Sn-Pb合金鍍層,具有良好的環(huán)境效益、生產(chǎn)成本低、有可靠的焊接強(qiáng)度,特別適用于引線(xiàn)架、連接器、片狀電阻和片狀電容等電子部件的無(wú)鉛焊料鍍層表面精飾。
參考文獻(xiàn)
[1]加藤保夫.錫-銅合金電鍍的電子部品[P].日本專(zhuān)利:特開(kāi)2001-40498,