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谷胱甘肽、表面活性劑共存體系對青蒿素過氧鍵穩(wěn)定性的影響.pdf

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2011-06-23  瀏覽次數(shù):420
核心提示:谷胱甘肽、表面活性劑共存體系對青蒿素過氧鍵穩(wěn)定性的影響.pdf
青蒿素的過氧橋鍵是其抗瘧作用的關(guān)鍵部位。采用循環(huán)伏安法研究了谷胱甘肽、表面活性劑共存體系對青蒿素過氧鍵穩(wěn)定性的影響。實(shí)驗(yàn)表明,當(dāng)青蒿素濃度為1.0mmol/L,谷胱甘肽濃度≥2.0×10-5mol/L時,加入陽離子表面活性劑(1.0×10-5mol/L,DBDAB),在體系中形成了谷胱甘肽-青蒿素-DBDAB三元加合物,該加合物在-0.88V電位下還原,其還原峰電位比游離青蒿素的還原峰電位負(fù)移了240mV,其還原反應(yīng)活化能升高了46.3KJ/moL,使青蒿素的過氧鍵更趨穩(wěn)定;而陰離子表面活性劑對體系沒有影響。進(jìn)一步探討了該三元加合物形成的電極機(jī)理。

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